PLASMA
PLASMA dalam arti luas di bidang ilmu fisika diskripsinya adalah cahaya yang bermuatan.
Plasma adalah gas yang sedikit terionosasi yang terdiri dari kumpulan spesies elektron, ion, dan atom dan melekul netral dimana jumlah pembawa muatan positif dan negatif hampir sama.
Terdapat banyak sekali tipe plasma, alami atau buatan, membentang dari bintang, matahari dan corona, dan ionosfere bumi sampai ke rejim arc bertekanan tinggi, tabung kejut, dan reaktor fusi.
Perbedaan utama antara tipe-tipe plasma terletak pada densitas elektron dan energi elektron rata-rata.
Pada lingkungan yang renggang seperti di angkasa luar, densitas elektron biasanya lebih kecil dari pada 107 cm-3, sedangkan didalam ekperimen, densitas yang mendekati 1020 telah terealisasi pada plasma tekanan tinggi buatan.
Dua daerah yang paling mendapat perhatian uantuk aplikasi plasma dalam industri adalah glow discharge da arc ditunjukkan dengan daerah yang diarsir.
Plasma yang dihasilkan pada daerah tersebut dicirikan dengan suhu rata-rata 1-10 eV (1 eV = 11604 k) dan densitas elektron 108 – 1014 cm-3.
Kita lihat bahwa elektronmemiliki suhu yang sangat tinggi, akan tetapi karena jumlahnya sedikit kandungan panasnya kecil dan dinding wadah tidak memanas.
Suhu elektron yang sangat tinggi tersebut menyebabkan plasma bermanfaat didalam pemrosesan semikonduktor untuk menggerakkan proses kimia dan lainnya.
Plasma bisa dibuat dengan mensuplai cukup energi untu memisahkan elektron dari atomnya.
Energi tersebut bisa berasal dari berbagai sumber yang meliputi panas, listrik, atau cahaya (cahaya ultra ungu atau cahaya tampak berintensitas tinggi dari laser). Jika power yang diberikan tidak mencukupi, plasma bergabung kembali menjadi gas netral.
Dalam aplikasi indurtri metode yang paling banyak digunakan untuk membuat plasma adalah dengan memberikan medan listrik tersebut bisa dikelompokkan sebagai discharge arus searah (DC) (0-100 Hz), discharge frekuensi tinggi (100 Hz-1 GHz), dan discharge gelombang mikro (> 1 GHz).
Akhir–akhir ini plasma frekuensi radio (rf) dengan gelombang 13,56 MHz telah banyak digunakan dalam fabrikasi devais semikonduktor untu deposisi, etching, sputtering film tipis dengan rentang tekanan dari beberapa mTorr sampai kira-kira 10 Toor.
Plasma rf lebih efesien dibandingkan dengan plasma DC dalam mempromosikan ionisasi. Power rf bisa diberikan ke reaktor dengan cara sebuah koil atau sepasang pelat kapasitor. Kedua bentuk koupling tersebut disebut masing-masing sebagai koupling induksi dan kapasitive.
Plasma telah digunakan untuk banyak aplikasi, implikasi plasma untuk ilmu dan tehnologi abad 21 maupun untuk kehidupan sehari-hari sangat menonjol,.
Barangkali kita tidak menyadari bahwa lampu neon yang kita gunakan dirumaha kita ada pancaran plasma.
Plasmalah yang mengubah tenaga listrik menjadi sebuah bentuk yang menyebabkan lapisan fosfor pada dinding lampu menghasilkan cahaya yang kita lihat. Sebagai contoh sebuah lampu neon dimana lapisan fosfornya dibuang untuk
0 komentar: